WENO ist in den Bereichen Consulting, Konstruktion, Softwareentwicklung, Sondermaschinenbau und Robotic, Präzisionstechnik und mechanische Bearbeitung für die produzierende Industrie tätig. Das Unternehmen ent-
wickelt Lösungen für Arbeits- und Fertigungsabläufe von funktionell gestalteten Einzelarbeitsplätzen bis hin zu hochkomplexen Montage- und Fertigungsanlagen, u. a. in der Produktion von Silizium- und Dünnschichtsolarzellen.
Bisher werden die Werkstücke (Wafer) durch manuelle Einzelkontrolle auf Mikrorisse untersucht, was äußerst fehleranfällig, personalintensiv und zeitaufwändig ist.
Mit dem Entwicklungsvorhaben sollte ein automatisiertes, standardisierbares Transportsystem für Wafer sowie ein hochpräzises Positioniersystem für Optiken auf mikroskopischer Basis etabliert werden, um die Ausschussraten zu senken. Diese liegen bei sieben bis acht Prozent; bei Reduzierung der Materialstärke auf kleiner 180 µm steigt die Rate auf mehr als zwölf Prozent. Die Anlage sollte fehlerhafte Strukturen im Bereich 0,5 bis 1µm möglichst früh erkennen und die nutzbare Restgröße ermitteln.